鋁合金鑄件生產(chǎn)后，電壓進(jìn)入一個(gè)更加有序、緩慢上升的階段。結(jié)果表明，無(wú)孔層是連續(xù)分解的，同時(shí)生長(zhǎng)著新的無(wú)孔層，也就是說(shuō)，氧化膜中無(wú)孔層的轉(zhuǎn)化效率與分解速率是平衡的，因此無(wú)孔層厚度不容易再次上升，電壓變化較小。
　　然而，此時(shí)，孔底部氧化膜的轉(zhuǎn)變和分解無(wú)法停止，它們?nèi)栽诶^續(xù)發(fā)展，導(dǎo)致孔底部逐漸進(jìn)入金屬基體。在鋁合金鑄造生產(chǎn)中，隨著氧化時(shí)間的增加，孔隙率隨著孔洞的增加而出現(xiàn)，具有孔隙率的膜層逐漸增厚。當(dāng)膜轉(zhuǎn)化率和分解率達(dá)到動(dòng)態(tài)平衡時(shí)，即使在促進(jìn)氧化的情況下，氧化膜的厚度也不會(huì)再次上升，應(yīng)停止陽(yáng)極氧化階段。
　　在通電的最初幾秒鐘到幾十秒鐘內(nèi)，鋁表面直接轉(zhuǎn)變?yōu)橐粚又旅?、絕緣性能高的氧化膜，厚度約為0.01~0.1μm，形成一層連續(xù)的無(wú)孔膜層，稱(chēng)為無(wú)孔層或阻擋層，當(dāng)電流通過(guò)并且膜層再次變厚時(shí)，膜發(fā)生。
　　鋁合金鑄件生產(chǎn)中的氧化過(guò)程簡(jiǎn)單，液體有序，操作過(guò)程方便，碎屑成分廣泛，功耗低，成本降低，幾乎可以更適合鋁和各種鋁合金的加工，因此在中國(guó)得到了廣泛的應(yīng)用。